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铬靶材是一种广泛应用的材料，它具有高强度、高硬度、高耐腐蚀性、高导电性和高熔点等优良性能，因此被广泛用于许多领域，特别是在制造电子器件和薄膜材料时非常常见。铬靶材的制备铬靶材制备方法多种多样，常用的包括电子束熔融法、直流磁控溅射法、射频磁控
