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铬靶材是一种广泛应用的材料，它具有高强度、高硬度、高耐腐蚀性、高导电性和高熔点等优良性能，因此被广泛用于许多领域，特别是在制造电子器件和薄膜材料时非常常见。
铬靶材的制备
铬靶材制备方法多种多样，常用的包括电子束熔融法、直流磁控溅射法、射频磁控溅射法、物理气相沉积法和电弧溅射法等。其中，直流磁控溅射法是常用的方法之一，它可以制备出高质量、高纯度的铬靶材。
铬靶材的物理性能
靶材名称：镍铬靶材
元素代号：Cr
密度：7.14 g/cm³
熔点：1907℃
晶格结构：体心立方结构
热导率： 0.935 W/(m·K)
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