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靶材是材料来源，靶材制造和溅射镀膜环节是整个靶材产业链中的关键环节。金属靶材主要有铜、钽、铝、钛、钴、钨等高纯度靶材，镍铂、钨钛等合金靶材。铜靶和钽靶通常配合起来使用。在中国，拥有冷喷涂和热喷涂生产技术和设备的企业很少。二氧化钛和钛合金涂料的应用将转化为民用涂料。热喷涂二氧化钛涂层;TiO2；旋转硅靶；旋转锌铝靶；靶材产业下游包括半导体、光伏电池、平板显示器等等。显示技术更迭发展，带来显示材料投资机会。预计2022年全球显示面板整体规模将超1300亿美元，LCD面板占比约70%。中小尺寸OLED快速提高渗透率。大尺寸LCD占据主流。LCD与OLED在生产过程均会用到偏光片、玻璃基板、靶材、光掩膜版、光刻胶等产品。新材料靶材项目总投资2亿元。
市场上常见的溅射靶材主要有平面靶材和旋转靶材，每一种靶材都有各自的优缺点。
平面钼(Mo)溅射靶材
对于平面靶材，其主要优点是结构简单，通用性强，膜层均匀性和重复性好。它的缺点是目标材料利用率低，一般只有20%左右；当辉光区（磁场分布区）的目标材料消耗到一定程度时，会形成条状坑，使目标变薄；当坑深达到一定值时，目标不能再使用。
旋转钼(Mo)溅射靶
与平面目标相比，旋转目标具有结构紧凑、目标利用率高等优点，这意味着旋转目标可以解决平面目标利用率低的问题。
从以上内容可以看出，一方面，不同目标形状的性能与具体的制备项目和产品有关；另一方面，人们正试图开发具有平面靶材和旋转靶材优势的新目标材料。
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