目前市场上用得较多的是氧化铌平面靶材，虽然平面靶材技术趋于成熟，但是平面靶材在使用过程中利用率只有20% — 25%，也就是大部分的靶材被浪费掉，无形中增加了生产成本。为了提高靶材利用率和降低生产成本，人们在不断研究新的靶材型体，经过多年的研究，发现旋转靶的利用率非常高，可达到70% — 80%，高利用率可降低下游产品的成本，同时更环保更节约材料。

氧化铌靶材是制备AR玻璃(减反射玻璃)，消影ITO玻璃的重要材料。AR玻璃是利用磁控溅射镀膜技术在普通的强化玻璃表面镀上一层氧化铌减反射膜，可有效地消减了玻璃本身的反射，增加了玻璃的透过率，使原先透过玻璃的色彩更鲜艳，更真实。目前氧化铌旋转靶材的生产主要采用喷涂工艺，此工艺生产的靶材密度低，一般小于80%，在使用过程中容易打火、掉渣，影响下游产品的质量及成品率。目前一些对溅射质量要求高的厂家都进口国外的旋转靶材，成本高，而且受制于人，所以对制备高致密性的旋转靶材工艺的开发是发展的必然趋势。

我们的可旋转溅射靶长度可达3852毫米，任何比这个长度短的管状靶都可提供。可根据不同的材料及要求，提供以下材料进行选择。

制造工艺

- 原料合成：通常从铌矿石或者高纯度铌金属开始，通过氧化反应制备氧化铌。这一过程需要控制反应条件，如温度、氧气流量等，以确保生成的氧化铌纯度高、晶型好。例如，在高温下使铌金属与充足的氧气反应，可以得到五氧化二铌。

- 成型工艺：将合成的氧化铌粉末加工成管状。一种常见的方法是采用粉末冶金技术，将粉末与适当的粘结剂混合后，在模具中压制成管状坯体，然后进行烧结处理。烧结过程中，温度、时间和气氛等因素都需要严格控制，以提高管靶的密度和强度。

- 后处理工艺：成型后的管靶可能需要进行表面处理，如研磨、抛光等，以提高其表面质量。良好的表面质量对于溅射镀膜过程中的薄膜均匀性至关重要，能够减少薄膜中的缺陷，提高镀膜质量。