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仪征陶瓷靶材哪个品牌好

涂层玻璃是在玻璃表面涂一层或多层金属、合金或金属化合物膜，以改变玻璃的光学性能，满足一定的要求。根据产品的不同特点，涂层玻璃可分为热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等，广泛应用于建材、平板显示器、光伏行业等领域。近年来，随着我国经济进入中低速发展阶段，我国房地产和电子设备产业转型升级，我国涂料玻璃产业发展进入结构调整期。此外，国内镀膜玻璃生产企业数量多，产能重复建设严重，行业市场竞争激烈。根据研究中心发布的《2018-2022年中国贵金属靶材市场分析可行性研究报告》，低辐射玻璃(Low-E)是中国银靶材的主要应用领域之一。低辐射玻璃膜层一般分为基层、过渡层和功能层三部分。其中，基层又称保护层，一般为氮化硅(Sin)，由Si靶材溅射形成；过渡层为氧化钛(TiO2)，由钛靶材溅射；功能层为Ag膜，由银靶材溅射形成。目前，旋转靶材在我国低辐射玻璃中的应用越来越多，其应用比例不断提高，约为20%。同时，由于旋转靶材成本效益水平较高，一般新建的Low-E玻璃生产线多选择使用旋转靶材。但由于设备更换成本高，一些较早的生产设备仍以平面靶材为主。总体而言，随着旋转靶材技术水平的不断提高和下游涂装设备适用性的不断提高，旋转靶材的应用比例稳步提高。

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磁控溅射技术在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面也得到应用。在玻璃基板或柔性衬底上溅射透明导电玻璃制备SiO2膜和掺有Zno或InSN氧化物(ITO)膜，使可见光范围内的平均光透过率超过90%。磁控溅射技术自问世以来发展迅速，应用广泛，有效影响了其他涂层方法的地位。通过大量的实践，总结出磁控溅射的主要优点：1.沉积速度快.基材温度升低.对膜层损伤小；2.对于大多数材料，只要能制成靶材，就能实现溅射；3.溅射所获得的薄膜与基片结合较好；4.溅射获得的膜纯度高，致密性好，成膜均匀性好；

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随着我国溅射靶材技术的成熟和高纯铝生产技术的提高，我国目标材料的生产成本优势明显，目标材料之一高纯铝的国内进出口差距逐渐缩小。随着国家进口靶材免税期的结束，国内靶材企业的优势更加突出。预计国内靶材需求将维持20%以上高速增长，市场份额有望进一步扩大。溅射靶材行业投资策略主要列为以下三点：1.长期客户认证造成的转换成本是溅射靶行业新进入者的主要障碍：成为下游客户的合格供应商通常需要完成2-3年的严格认证过程。独立成熟的制造技术和研发能力是高纯溅射靶靶材企业的基础:高纯溅射靶材行业跨越材料和电子信息，属于技术密集型行业；下游电子信息产业技术需求日新月异，靶材制造企业必须有足够的技术积累的能力同步更新其技术和产品。

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随着全球光电产业的蓬勃发展，氧化陶瓷靶材作为一种重要的基础材料，具有巨大的商业价值，多年来一直受到学术界和行业界的关注。与日本、德国等世界靶材强国相比，我国陶瓷靶材研究相对落后，陶瓷靶材仍是我国的弱点。制备氧化陶瓷靶材涉及三个主要环节：粉末合成、生坯成型和高温烧结。三个环节相互独立，又成为一个系统,要制造出高性能的陶瓷靶材必须将三个环节系统考虑。涂料市场不仅对各种涂料产品的尺寸、质量、生产效率和制造成本提出了严格的要求，而且对陶瓷靶材的结构提出了新的要求。纵观陶瓷靶材的研究过程和市场需求，陶瓷靶材结构的发展趋势主要体现在以下几个方面。