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PVD是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。是由汽化形成所需的膜材料（在溅射靶）凝结到基板（玻璃板，薄膜太阳能电池等）。该涂层技术包括纯粹的物理过程，冷凝或等离子溅射轰击高温真空蒸发，而不涉及化学反应在表面化学气相沉积。
工作时，溅射沉积，辉光等离子体放电（局部目标周围的磁场）轰击材料溅射作为基板上的随后的沉积相。在真空环境下，通过电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同，导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。
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